az 50xt 正性光刻胶，性能稳定，是应用于电镀工艺的超厚光刻胶。
az 50xt 光刻胶 产品详情
az光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进；广泛应用于半导体行业。
光刻胶产品型号及参数
光刻胶名称 型号 匀胶厚度
merck az 正/负可转换型光刻胶 az 5214 0.5-6um
az 50xt 正胶 az 50xt 40-80um
az 9260 正胶 az 9260 6.2-15um
az 4620 光刻胶 az 4620 10-15um
microchem su-8 负胶 su-8 2015 13-38um
microchem su-8 负胶 su-8 2050 40-170um
microchem su-8 负胶 su-8 2075 60-240um
microchem su-8 负胶 su-8 2150 190-650um
microchem su-8 负胶 su-8 3010 8-15um
microchem su-8 负胶 su-8 3050 44-100um
az光刻胶工艺条件其他参数及说明：
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